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伊诺特专注于为半导体行业提供高效、可靠的过滤解决方案。我们的产品广泛应用于半导体制造的各个环节，致力于确保生产环境的洁净度、工艺气体的纯度以及设备的稳定运行。

1. 超纯水制备

半导体制造需要超纯水（UPW）用于晶圆清洗和化学溶液配制。伊诺特的超纯水过滤器可有效去除水中的颗粒物、离子和有机物，确保水质达到半导体级标准

2. 工艺气体纯化

半导体制造过程中使用的工艺气体（如氮气、氩气、氢气等）需要极高的纯度。伊诺特的气体过滤器可去除气体中的颗粒物、水分和油污，确保气体纯度满足半导体工艺要求，适用于CVD、蚀刻、光刻等工艺。

3. 化学药液过滤

在晶圆清洗和蚀刻过程中，化学药液的纯净度直接影响产品质量。伊诺特的化学药液过滤器可去除药液中的颗粒物和胶体，确保工艺稳定性和良品率。

4. GMP抛光液过滤

化学机械抛光（GMP）是半导体制造的关键工艺之一。伊诺特的GMP抛光液过滤器可有效去除抛光液中的颗粒物，防止晶圆表面划伤，提高抛光质量。

5. 尾气处理

半导体制造过程中产生的尾气含有酸性、碱性或有机污染物。伊诺特的尾气过滤器可高效去除有害物质，确保排放符合环保标准。



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